반도체2 반도체의 제작 과정 탐구 #2 산화 공정과 포토 공정 이번 포스팅에서는 반도체 공정 중에서 중요한 역할을 하는 산화 공정과 포토 공정에 대해 설명합니다. 산화 공정은 반도체 소자의 절연막 형성에 관련되어 있으며, 포토 공정은 반도체 소자의 미세한 패턴 형성에 관련되어 있습니다. 이러한 공정들은 반도체 제조 과정에서 핵심적인 역할을 담당하며, 반도체 소자의 성능과 품질에 직접적인 영향을 미칩니다. 산화 공정 산화 공정은 반도체 소자의 절연막 형성에 중요한 역할을 합니다. 이 과정은 반도체 제조 과정에서 핵심적인 단계로, 정확하고 일관된 공정이 반도체 소자의 품질과 안정성에 큰 영향을 미칩니다. 주로 사용되는 산화 공정은 열 산화 공정입니다. 열 산화 과정에서는 반도체 웨이퍼를 고온에서 산소와 반응시켜 산화막을 형성합니다. 이는 반도체 웨이퍼의 표면에 산소 분.. 2023. 11. 18. 반도체의 제작 과정 탐구 #1 웨이퍼 제조 반도체 산업은 대한민국에서 가장 큰 사업 분야 중 하나입니다. 반도체 제조 공정은 총 8대 공정이 있는데, 그중에서 웨이퍼 제조는 반도체 산업에서 핵심적인 단계로, 고도로 정교한 기술과 공정이 필요합니다. 이번 포스팅에서는 웨이퍼 제조 과정의 주요 단계와 각 단계에서 수행되는 작업에 대해 자세히 설명하고 있습니다. 반도체 제조 공정에서의 웨이퍼 제조 과정은 반도체 기판인 웨이퍼를 만드는 과정을 의미합니다. 웨이퍼는 주로 실리콘으로 만들어지며, 고도로 정교한 기능을 갖춘 반도체 소자들을 위한 기반 재료로 사용됩니다. 웨이퍼 제조 과정은 다음과 같은 주요 단계로 구성됩니다. 웨이퍼 성장 웨이퍼 제조 과정에서 웨이퍼 성장은 매우 중요한 단계입니다. 이 단계에서는 실리콘 원료를 이용하여 웨이퍼를 성장시키는데, .. 2023. 11. 18. 이전 1 다음
